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发明名称 PATTERNING AND FORMING OF CONDUCTIVE REGION BY RESIST PROCESS
摘要
申请公布号 JPH0480956(A) 申请公布日期 1992.03.13
申请号 JP19900195512 申请日期 1990.07.24
申请人 SONY CORP 发明人 MORIKAWA TAKASHI
分类号 H01L21/76;H01L21/027;H01L21/265;H01L21/266;H01L21/8238;H01L27/092 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人
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