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发明名称 PROCESS FOR FORMING TITANIUM SILICIDE ON A SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号 EP0452889(A3) 申请公布日期 1992.01.22
申请号 EP19910106071 申请日期 1991.04.16
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 NULMAN, JAIM
分类号 H01L21/00;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/306;H01L21/336;(IPC1-7):H01L21/285;H01L21/321 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
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