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发明名称 A PROCESS FOR MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE COMPRISING P-CHANNEL AND N-CHANNEL MISFETS
摘要
申请公布号 EP0166167(B1) 申请公布日期 1991.11.13
申请号 EP19850106024 申请日期 1985.05.15
申请人 HITACHI, LTD. 发明人 KOYANAGI, MITSUMASA
分类号 H01L21/8238;H01L21/265;H01L21/762;H01L27/092;H01L29/78 主分类号 H01L21/8238
代理机构 代理人
主权项
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