| 摘要 |
<p>Eine Reinigungseinrichtung (2) für beispielsweise ein Gummituch eines Gummituchzylinders einer Offsetdruckmaschine ist mit dem Ziel einer konstengünstigen Ausgestaltung und eines verschleißarmen Betriebs derart ausgebildet, daß eine eine Reinigungstuchbahn (4) an die Mantelfläche (1) des Gummituchzylinders andrückende druckbeaufschlagte Membran (7) einen an dis Breite der Reinigungstuchbahn (4) angepaßten mit dieser Reinigungstuchbahn kontaktierbaren erhabenen ersten Oberflächenbereich (16) und gegenüber diesem mittels einer zurückspringenden Stufe (17) abgesetzte zweite Oberflächenbereiche (18.1,18.2) einer der reinigungstuchbahn zugewandten Oberfläche der Membran aufweist. <IMAGE></p> |
