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发明名称 CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM
摘要
申请公布号 EP0418554(A3) 申请公布日期 1991.07.17
申请号 EP19900115714 申请日期 1990.08.16
申请人 FUJITSU LIMITED 发明人 HARA, TATSUSHI;MISAWA, NOBUHIRO;SUZUKI, TOSHIYA;OHBA, TAKAYUKI;MIENO, FUMITAKE;YAMAGUCHI, AKIO
分类号 C23C16/44;C23C16/04;C23C16/448;C23C16/455;H01L21/205;H01L21/28;H01L21/285;(IPC1-7):C23C16/04 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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