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Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Gemisch, im wesentlichen bestehend aus (a) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen Bindemittel oder Bindemittelgemisch und (b) einer bei Bestrahlung eine starke Säure bildenden Verbindung, wobei Komponente (a) mindestens eine Gruppierung <IMAGE> enthält. Das erfindungsgemäße strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefstrukturen.
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