| 主权项 |
1﹒一种气体供应装置,用来供应化学蒸汽淀积法形成淀积膜所需之起始气体,上装置包含一容器,具有一空间,可藉导入载体气体以排出含有有机金属化合物之起始气体;一气体导入工具,与该容器连接,具有多个导入气体之开孔,以将载体气体或起始气体导入该容器中,以产生起始气体;以及一气体产生加速工具,以加速起始气体之产生。2﹒如申请专利范围第1项之气体供应装置,其中该气体产生加速工具为一气体调转工具,其能使载体气体通往多个气体导入工具之供应线开或关,以使载体气体经开着之供应线分散出来。3﹒如申请专利范围第1项之气体供应装置,其中该气体产生加速工具为一超音波振动器。4﹒如申请专利范围第1项之气体供应装置,其中该气体产生加速工具为一喷雾器,系使用了一压电元件,使有机金属化合物以烟雾状态喷出。5﹒如申请专利范围第1至4项中任一项之气体供应装置,其中该有机金属化合物为氢化二甲基铝。6﹒如申请专利范围第1项之气体供应装置,其中该载体气体为氢。7﹒一气体供应装置,用来供应藉化学蒸汽淀积法形成淀积膜所需之起始气体,此装置包含一有机金属贮存工具,可藉着导入载体气体将含有有机金属化合物之起始气体排出;多个气体导入元件,可持载体气体导入该贮存工具中;以及一气体调转工具,以使连接至多个器体导入元件之载体气体供应线开或关,并使载体气体经开着之供应线分散出来。8﹒如申请专利范围第7项之气体供应装置,其中该通往多个气体导入元件之载体气体供应线系以计时上之延迟开或关。9﹒如申请专利范围第7项之气体供应装置,其中多个气体导入元件中,每个皆有多个气体导入开孔,以将气体导入有机金属化合物。10﹒一气体供应装置,用来供应藉化学蒸汽淀积法形成淀积膜所需之起始气体,此装置包含一有机金属化合物贮存工具,可藉导入载体气体而排出含有有机金属化合物之起始气体;具有多个小开孔之气体导入元件,可将载体气体导入该贮存工具中;以及一安置在该贮存工具中之超音波振动器。11﹒一气体供应装置,用来供应藉化学蒸汽淀积法形成淀积膜所需之起始气体,此装置包含一容器,具有一空间,可藉导入载体气体而排出含有有机金属化合物之起始气体;以及一喷射工具,可将有机金属化合物以烟雾状态喷至该容器中。12﹒如申请专利范围第11项之气体供应装置,其中用来产生喷射工具所需之能量的工具为一压电元件。13﹒如申请专利范围第7至12项中任一项之气体供应装置,其中该有机金属化合物为氢化二甲基铝。14﹒如申请专利范围第13项之气体供应装置,其中该载体气体为氢。15﹒一淀积膜形成装置,用于化学蒸汽淀积法中,此装置包含:(1)一气缸供应装置,包含一容器,具有一空间,以藉载体气体之助导入及排出含有有机金属化合物之起始气体,以形成淀积膜;一个气体导入工具,与该容器连接,并具有多个气体导入开孔,可将载体气体或起始气体导入容器中,而产生起始气体;以及一气体产生加速工具,可加速起始气体之产生;(2)一个反应室,与气体供应装置连接,以接受由其中而来之起始气体,以及(3)一个排气工具,与该反应室连接,以便该反应室排出气体。16﹒如申请专利范围第15之气体供应装置,其中该气体产生加速工具为一气体调转工具,其能使通往多个气体导入工具之载体气体供应线开或关,以使载体气体经开着之供应线分散出来。17﹒如申请专利范围第15之气体供应装置,其中该气体产生加速工具一超音波振动器。18﹒如申请专利范围第15之气体供应装置,其中该气体产生加速工具一喷雾器,系使用一压电元件,以喷出烟雾状之有机金化合物。19﹒如申请专利范围第15至18项中任一项之气体供应装置,其中该有机金属化合物为氢化二甲基铝。20﹒如申请专利范围第19项项之气体供应装置,其中载体气体为氢。21﹒一淀积膜形成装置,用于化学蒸汽淀积法中,此装置包含:(1)一气体供应装置,包含一有机金属化合物贮存工具,可藉导入载体气体而排出含有有机金属化合物之起始气体,以用于形成淀积膜:多个气体导入元件,以将载体气体导入该贮存工具中;以及二气体调转工具,可使通往多个气体导入工具之载体气体供应线路开或关,以使载体气体经开着之供应线路分散出来。(2)一反应室,与该气体供应装置连接,以接受由其中所供应之起始气体,以及(3)一个排气工具,与该反应室连接,以使该反应室排出气体。22﹒一淀积膜形成装置,用于化学蒸汽淀积法中,装置包含:(1)一气体供应装置,包含一有机金属化合物贮存工具,可藉导入载体气体而排出含有有机金属化合物之起始气体,以形成淀积膜;一气体导入元件,具有多个开孔,以将载体气体导入该贮存工具中;以及一个超音波振动器,装设在该贮存工具中(2)一个反应室,与该气体供应装置连接,以接受由其中所供应之起始气体;以及(3)一个排气工具,与该反应室连接,以使该反应室排出气体。23﹒一淀积膜形成装置,用于化学蒸汽淀积法中,此装置包含:(1)一气体供应装置,包含一容器,具有一空间,可藉导入载体气体而排出含有机金属化合物之起始气体,以形成淀积膜;以及一喷射工具,可将有机金属化合物以烟雾状态喷入该容器中,(2)一反应室,与该气体供应装置连接,以接受由其中所供应之起始气体,以及(3)一排气工具,与该反应室连接,以使该反应室排出气体。图示简单说明图1为一示意图,图2为一计时图,图3为一示意图,图4为一示意图。图5A至5D为示意图,图6为一淀积膜形成装置之示意图,图7为传统气体供应装置之示意图。 |
