发明名称 Selective deposition of amorphous and polycrystalline silicon
摘要
申请公布号 US4963506(A) 申请公布日期 1990.10.16
申请号 US19890342004 申请日期 1989.04.24
申请人 MOTOROLA INC. 发明人 LIAW, HANG M.;SEELBACH, CHRISTIAN A.
分类号 H01L21/205;H01L21/20 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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