CHANGED PARTICLE MULTI-BEAM EXPOSURE SYSTEM AND METHOD,申请号JP19890024506-传众专利搜索

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发明名称	CHANGED PARTICLE MULTI-BEAM EXPOSURE SYSTEM AND METHOD
摘要
申请公布号	JPH02205010(A)	申请公布日期	1990.08.14
申请号	JP19890024506	申请日期	1989.02.02
申请人	NIPPON SEIKO KK	发明人	ANDO MASAAKI;MATSUZAKA MASAAKI;SAIDA MASAHIRO
分类号	H01L21/027	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
主权项
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