| 发明名称 |
Process for producing small-sized electrodes in an integrated circuit. |
| 摘要 |
<p>Elaboration d'électrodes très resserrées, notamment dans un dispositif à transfert de charge. Selon l'invention, une première couche (11) de matériau conducteur est déposée et subit une gravure incomplète en présence d'un masque (13); après élimination du masque, une seconde couche de matériau conducteur est déposée et l'ensemble est soumis à une gravure sans masque, ce qui permet de réduire la largeur des espaces interélectrodes.</p> |
| 申请公布号 |
EP0375500(A1) |
申请公布日期 |
1990.06.27 |
| 申请号 |
EP19890403408 |
申请日期 |
1989.12.08 |
| 申请人 |
THOMSON COMPOSANTS MILITAIRES ET SPATIAUX |
发明人 |
BLANCHARD, PIERRE;BAUSSAND, PATRICK |
| 分类号 |
H01L29/417;H01L21/339;H01L29/762 |
主分类号 |
H01L29/417 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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