发明名称 |
半导体装置的导线材料 |
摘要 |
一种用于半导体装置的导线材料,组成的物质按重量计包括:Ni 0.4至4.0%、Si 0.1至1.0%、Zn 0.05%至1.0%、Mn 0.01至1.0%、Mg 0.001至0.01%以下、Cr 0.001至0.01%以下、S最多高达0.003%、余下的是Cu和不可避免的杂质。此外,这导线材料还可含有高达5ppm的氧及高达5ppm的氢。 |
申请公布号 |
CN1003065B |
申请公布日期 |
1989.01.11 |
申请号 |
CN85103501 |
申请日期 |
1985.05.03 |
申请人 |
株式会社神户制钢所 |
发明人 |
官藤元久;松井隆;田英和 |
分类号 |
H01L21/60;H01L23/48;C22C5/02 |
主分类号 |
H01L21/60 |
代理机构 |
中国专利代理有限公司 |
代理人 |
罗宏;刘元金 |
主权项 |
1.一种用于半导体装置的导线材料,其特征在于按重量计包括Ni 0.4至4.0%、Si 0.1至1.0%、Zn 0.05至1.0%、Mn 0.01至1.0%、Mg 0.001至0.01%以下、Cr 0.001至0.01%以下,S最多可达0.003%,余下的是Cu和不可避免的杂质,该导线材料还包括高达5ppm的氢及高达5ppm的氧。 |
地址 |
日本兵库县神户市中央区胁浜町1丁目3-18 |