发明名称 半导体装置的导线材料
摘要 一种用于半导体装置的导线材料,组成的物质按重量计包括:Ni 0.4至4.0%、Si 0.1至1.0%、Zn 0.05%至1.0%、Mn 0.01至1.0%、Mg 0.001至0.01%以下、Cr 0.001至0.01%以下、S最多高达0.003%、余下的是Cu和不可避免的杂质。此外,这导线材料还可含有高达5ppm的氧及高达5ppm的氢。
申请公布号 CN1003065B 申请公布日期 1989.01.11
申请号 CN85103501 申请日期 1985.05.03
申请人 株式会社神户制钢所 发明人 官藤元久;松井隆;田英和
分类号 H01L21/60;H01L23/48;C22C5/02 主分类号 H01L21/60
代理机构 中国专利代理有限公司 代理人 罗宏;刘元金
主权项 1.一种用于半导体装置的导线材料,其特征在于按重量计包括Ni 0.4至4.0%、Si 0.1至1.0%、Zn 0.05至1.0%、Mn 0.01至1.0%、Mg 0.001至0.01%以下、Cr 0.001至0.01%以下,S最多可达0.003%,余下的是Cu和不可避免的杂质,该导线材料还包括高达5ppm的氢及高达5ppm的氧。
地址 日本兵库县神户市中央区胁浜町1丁目3-18