| 发明名称 |
APPARATUS FOR EFFECTING ALIGNMENT AND SPACING CONTROL OF A MASK AND WAFER FOR USE IN X-RAY LITHOGRAPHY |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0100526(B1) |
申请公布日期 |
1988.10.05 |
| 申请号 |
EP19830107404 |
申请日期 |
1983.07.27 |
| 申请人 |
THE PERKIN-ELMER CORPORATION |
发明人 |
BUCKLEY, W. DEREK |
| 分类号 |
H01L21/027;G03F9/00;(IPC1-7):G03B41/00;G05D3/00 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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