发明名称 蒸发及供应材料之装置
摘要 一种将液体材料蒸发并以气体状态供应此材料之装置,其中CVD装置所用之液体材料以被控制的流速导入一蒸发器,而由设置在蒸发器内侧或外侧的超音波 雾 化装置将其 雾 化,由一载体气体的环流所加热并蒸发。在制造半导体过程中,当CVD用液体材料被供应至CVD装置时,此材料在蒸发状态中的浓度可容易被控制。此材料的气体浓度可相应于材料流速之改变而迅速改变,材料的分解不会发生,而CVD装置的运作条件则不受限制。
申请公布号 TW460609 申请公布日期 2001.10.21
申请号 TW087116166 申请日期 1998.09.29
申请人 派欧尼股份有限公司 发明人 高松勇吉;米山岳夫;石滨义康
分类号 C23C16/44;H01L21/205 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种用来蒸发液体材料并以气体状态供应此材 料之装置,其包括一液体材料容器,一液体流速控 制部位,一超音波雾化装置,以及一蒸发器其备有 液体材料至少一入口载体气体之至少一入口以及 被蒸发气体之一出口,其形状为球形,椭圆形,管形, 圆柱形,圆锥形,截锥形,或是半球形在其端部具有 圆形表面,或类似以上形状之形状或是以上形状的 组合之形状,并蒸发液体材料成为蒸气状态。2.如 申请专利范围第1项之装置,其中载体气体入口之 设备方向导致载体气体在蒸发器中形成环流。3. 如申请专利范围第1项之装置,其中载体气体入口 之设置方向是与被蒸发气体出口相垂直的平面相 平行,而相对于蒸发器内部表面而倾斜。4.如申请 专利范围第1项之装置,其中超音波雾化装置是设 置于蒸发器之内部。5.如申请专利范围第1项之装 置,其中超音波雾化装置是设置于液体材料之入口 。6.如申请专利范围第1项之装置,其中藉由使用一 帮浦,藉由使用一帮浦及一液流控制阀,或将液体 材料容器保持在一提高的压力之下并使用液流控 制阀,而以最小悸动供应此液体材料。7.如申请专 利范围第1项之装置,使用作为液体材料容器的装 置,蒸发器以及控制液体流速的部位,这些装置的 氦气泄漏率是少于或等于10-9托(Torr)升/秒或者是 被焊接的装置。8.一种蒸发器,其包含至少一液体 材料入口,至少一载体气体入口及一被蒸发气体出 口,具有球形,椭圆形,管形,圆柱形,圆锥形,截锥形, 或半球形在其端部具有圆形表面,类似这些形状的 形状,或是这些形状的组合形状,并蒸发液体材料 至蒸气状态,其中载体气体的入口之设置之方向导 致在蒸发器中形成载体气体之环流。图式简单说 明: 第一图系显示本发明之装置范例之概要图示; 第二图及第三图系各显示发明中使用之蒸发器之 一例之横截面图,一超音波雾化装置被设置在如第 二图所示之蒸发器之内部,并且设置在如第三图所 示蒸发器的外部; 第四图系显示帮浦之一例的横截面图,其控制本发 明装置中所使用的流速; 第五图系显示帮浦另一例之横截面图,其控制本发 明装置中所使用的流速。
地址 日本