发明名称 Process for manufacturing targets for cathodic sputtering.
摘要 <p>Es wird ein Verfahren zur Herstellung hochreiner, mechanisch stabiler Targets beschrieben, die spröde Phasen im Gleichgewichtszustand enthalten. Dazu wird zuerst ein poröser Körper aus einem Teil der höherschmelzenden Komponente hergestellt und mit dem Rest der Komponentenzusammensetzung getränkt. Dabei muß die Zusammensetzung des Tränkmaterials so gewählt werden, daß dürch die Reaktion zwischen Tränkmaterial und porösem Körper keine tieferschmelzenden Phasenanteile entstehen.</p>
申请公布号 EP0257463(A2) 申请公布日期 1988.03.02
申请号 EP19870111729 申请日期 1987.08.13
申请人 DEMETRON GESELLSCHAFT FUER ELEKTRONIK-WERKSTOFFE M.B.H.;DEGUSSA GMBH 发明人 HAUSSELT, JUERGEN, DR.;SCHITTNY, STEPHAN-U., DR.;KAUFMANN, DIETER, DIPL.-ING.
分类号 B22F3/26;C22C1/04;C23C14/34 主分类号 B22F3/26
代理机构 代理人
主权项
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