| 摘要 |
1. Высокоплотная галлийоксид/цинкоксидная спеченная распыляемая мишень для формирования прозрачной электропроводной пленки, содержащей 20 млн-1 по массе или более каждого из оксида циркония и оксида алюминия, в которой общее содержание таковых составляет менее чем 250 млн-1, а величина объемного сопротивления мишени составляет 3,0 мОм или менее. ! 2. Высокоплотная галлийоксид/цинкоксидная спеченная распыляемая мишень по п.1, в которой концентрация галлия в оксиде цинка составляет от 1 до 7 мас.%, в пересчете на оксид галлия. ! 3. Высокоплотная галлийоксид/цинкоксидная спеченная распыляемая мишень по п.1 или 2, в которой спеченная плотность составляет 5,45 г/см3 или больше. ! 4. Способ формирования прозрачной электропроводной пленки для формирования тонкой пленки, состоящей из оксида галлия/оксида цинка, содержащей 20 млн-1 по массе или более каждого из оксида циркония и оксида алюминия, в которой общее содержание таковых составляет менее чем 250 млн-1, на субстрате путем проведения напыления с использованием галлийоксид/цинкоксидной мишени, содержащей 20 млн-1 по массе или более каждого из оксида циркония и оксида алюминия, в которой общее содержание таковых составляет менее чем 250 млн-1, и величина объемного сопротивления мишени составляет 3,0 мОм или менее. ! 5. Способ по п.4, в котором концентрация галлия в оксиде цинка в прозрачной электропроводной пленке составляет от 1 до 7 мас.%, в пересчете на оксид галлия. ! 6. Прозрачная электропроводная пленка, превосходная по электрической проводимости, состоящая из оксида галлия/оксида цинка, в которой галлийоксид/цинкоксидная прозрачная электропроводная пленка, сформированная на субстрат |
