发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR VACUUM DEPOSITION PLATING
摘要
申请公布号 EP0175640(A3) 申请公布日期 1987.12.02
申请号 EP19850730123 申请日期 1985.09.16
申请人 MITSUBISHI JUKOGYO KABUSHIKI KAISHA;NISSHIN STEEL CO., LTD. 发明人 FURUKAWA, HEIZABURO HIROSHIMA SHIPYARD & EN. WORKS;WAKE, KANJI HIROSHIMA SHIPYARD & ENGINE WORKS;SHIMOZATO, YOSHIO HIROSHIMA TECHNICAL INSTITUTE;YANAGI, KENICHI HIROSHIMA TECHNICAL INSTITUTE;KATOH, MITSUO HIROSHIMA TECHNICAL INSTITUTE;WADA, TETSUYOSHI HIROSHIMA TECHNICAL INSTITUTE;TSUKIJI, NORIO C/O HANSHIN R & D LABORATORIES;AIKO, TAKUYA C/O HANSHIN R & D LABORATORIES;KITTAKA, TOSHIHARU C/O HANSHIN R & D LABORATORIES;NAKANISHI, YASUJI C/O HANSHIN R & D LABORATORIES
分类号 C21D9/56;C23C14/56;(IPC1-7):C23C14/56 主分类号 C21D9/56
代理机构 代理人
主权项
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