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发明名称 POSITIVE RESIST SYSTEM HAVING HIGH RESISTANCE TO OXYGEN REACTIVE ION ETCHING
摘要
申请公布号 EP0225454(A3) 申请公布日期 1987.11.25
申请号 EP19860114539 申请日期 1986.10.21
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 KHOJASTEH, MAHMOUD M.;KWONG, RANEE W.;SACHDEV, HARBANS S.;SACHDEV, KRISHNA G.
分类号 G03F7/20;G03F7/039;G03F7/075;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/10 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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