PHOTOCHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS FOR DEPOSITING OXIDE LAYERS

摘要

Procédé amélioré destiné à déposer une couche d'oxyde sur un substrat en exposant ledit substrat à un agent réactif en phase vapeur sélectionné et à un précurseur contenant de l'oxygène comprenant de l'oxyde azoté mélangé avec de l'oxygène moléculaire selon une proportion prédéterminée, en présence d'un rayonnement d'une longueur d'onde choisie. Le rayonnement provoque la dissociation directe du précurseur comprenant de l'oxygène afin de former des atomes d'oxygène neutres qui réagissent avec l'agent réactif en phase vapeur et forment l'oxyde qui se dépose en couches sur le substrat. La vitesse de réaction pour former et déposer la couche d'oxyde est améliorée en mélangeant l'oxygène moléculaire avec de l'oxyde azoté dans le précurseur.