METHOD OF PRODUCING DEVICES USING NONPLANAR LITHOGRAPHY.

摘要

Nouveau procédé de production d'un dispositif formant des motifs par lithographie sur des substrats non plans. On forme la surface d'un substrat non plan en y déposant un revêtement initial sensiblement uniforme de réserve. L'uniformité est obtenue en déposant la réserve soit à partir d'une phase de vapeur, soit à partir d'une brume. Les mouvements des constituants de la vapeur ou de la brume devraient en outre être suffisamment aléatoires pour que la distribution du flux angulaire en un point quelconque de la surface du substrat non plan à revêtir soit sensiblement identique à celle en un autre point quelconque à revêtir.