Method of making a thin film capacitor.

摘要

Auf einem geeigneten Substrat wird ein als einer der Kondensatorbeläge vorgesehener Metallfilm aufgetragen. Das so mit dem Metallbelag versehene Substrat wird dann einer Ionen-Implantation von O<+>- oder N<+>-Ionen ausgesetzt, so daß der Oberflächenbereich des Metallbelags mit O<+>- bzw. N<+>-Ionen gesättigt wird. Anschließend wird dann der sich so ergebende Schichtaufbau aufgeheizt, um die erhaltene Oxid- bzw. Nitridstruktur zu stabilisieren, so das sich ein dielektrischer Ultra-Dünnfilm ergibt, der anschließend dann noch mit einem Gegenbelag als weiterer Kondensatorbelag überzogen wird.