| 发明名称 |
PLASMABEARBEITUNGSVERFAHREN UND -REAKTOR MIT REGELUNG DER RF-BIAS-LEISTUNG |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE60034321(T2) |
申请公布日期 |
2007.08.30 |
| 申请号 |
DE20006034321T |
申请日期 |
2000.02.10 |
| 申请人 |
LAM RESEARCH CORP. |
发明人 |
HOWALD, ARTHUR M.;HOLLAND, JOHN P.;OLSON, CHRISTOPHER |
| 分类号 |
H01J37/32;H05H1/00;C23F4/00;H01J7/24;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;H03H7/40;H05B31/26;H05H1/46 |
主分类号 |
H01J37/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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