发明名称 Method and apparatus for perforating glass plates by etching, preferably for producing fine structures.
摘要 Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ätzen von Durchbrüchen oder Kanälen in Glasplatten, vorzugsweise mit feinsten Strukturen, wie sie z. B. in Gasentladungsanzeigeelementen benötigt werden, insbesondere in solchen mit hohen Bildpunktdichten. Die Durchbrüche oder Kanäle, z. B. Löcher, werden in die Glasplatte (1) in einer geschlossenen Apparatur (Ätzkammer) in der Gasphase einer konzentrierten Flußsäure geätzt. Dabei sind die nicht zu ätzenden Stellen mit einer Flußsäure resistenten Abdeckung (2) versehen. Figure 2 zeigt einen Schnitt durch eine Glaslochplatte, die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt wurde.
申请公布号 EP0003276(A1) 申请公布日期 1979.08.08
申请号 EP19790100013 申请日期 1979.01.03
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT BERLIN UND MUNCHEN 发明人 WEINGAND, KASPAR
分类号 H01J15/00;C03C15/00;H01J9/14;H01J9/26;(IPC1-7):C03C15/00;H01J65/04 主分类号 H01J15/00
代理机构 代理人
主权项
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