发明名称 REMOVAL OF POROUS REGION AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JPH11204495(A) 申请公布日期 1999.07.30
申请号 JP19980005812 申请日期 1998.01.14
申请人 CANON INC 发明人 SAKAGUCHI KIYOBUMI;YANAGIDA KAZUTAKA
分类号 H01L21/76;C25D11/32;H01L21/00;H01L21/02;H01L21/20;H01L21/306;H01L21/762;H01L27/12;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人
主权项
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