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发明名称
制造具有一球形凹入闸极之半导体元件的方法
摘要
一种制造半导体元件的方法,包括:蚀刻一基板的一部份以形成一凹入;将一聚合物层填入该凹入之一较低部份;于该凹入之该较低部份以上的该凹入上方形成侧壁间距元件;移除该聚合物层;及等向性蚀刻该凹入之该较低部份以形成一球形凹入。
申请公布号
TW200737358
申请公布日期
2007.10.01
申请号
TW095149208
申请日期
2006.12.27
申请人
海力士半导体股份有限公司
发明人
赵俊熙
分类号
H01L21/336(2006.01);H01L21/76(2006.01);H01L21/3065(2006.01)
主分类号
H01L21/336(2006.01)
代理机构
代理人
何金涂;李国光
主权项
地址
韩国
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