| 发明名称 |
PLASMA TREATMENT METHOD AND DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06251896(A) |
申请公布日期 |
1994.09.09 |
| 申请号 |
JP19930310100 |
申请日期 |
1993.12.10 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
SAITO YUTAKA;SUZUKI YASUMICHI;TAMURA NAOYUKI |
| 分类号 |
H01L21/205;C23C16/50;C23C16/511;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065;H05H1/46;(IPC1-7):H05H1/46 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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