发明名称 |
一种LTPS阵列基板的制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种LTPS阵列基板的制造方法,所述LTPS阵列基板至少包括金属遮挡层、缓冲层、有源层、栅极绝缘层和栅极层。所述制造方法是将金属遮挡层作为栅极层的光罩用以图案化所述栅极层,使所获得的栅极图案的宽度小于所述金属遮挡层的宽度,并且所述栅极图案的垂直投影完全落入所述金属遮挡层范围内。在本发明中,通过利用所述金属遮挡层作为光罩图案化所述栅极层,节省了栅极金属光罩的制作成本,从而节省了LTPS生产制作成本并简化了生产制程。 |
申请公布号 |
CN105742240A |
申请公布日期 |
2016.07.06 |
申请号 |
CN201610206147.5 |
申请日期 |
2016.04.05 |
申请人 |
武汉华星光电技术有限公司 |
发明人 |
陈玉霞;贺超 |
分类号 |
H01L21/77(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/77(2006.01)I |
代理机构 |
深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 |
代理人 |
黄威 |
主权项 |
一种LTPS阵列基板的制造方法,所述LTPS阵列基板至少包括金属遮挡层、缓冲层、有源层、栅极绝缘层和栅极层,其特征在于,所述制造方法是将金属遮挡层作为栅极层的光罩用以图案化形成所述栅极层,且所获得的栅极层的宽度小于所述金属遮挡层的宽度,并且所述栅极层的垂直投影完全落入所述金属遮挡层范围内。 |
地址 |
430079 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 |