| 摘要 |
본 발명은 반도체 설비 등에 사용되는 진공펌프의 내부에 질소가스를 분사하여 진공펌프 내부에 파우더가 쌓이는 것을 억제할 수 있는 장치에 관한 것이다. 본 발명은 펌프 내부에 장착되어 펌프 배기 배관에서의 파우더 발생을 억제하기 위하여 질소를 고온으로 히팅하는 장치와 더불어 코안다 효과(Coanda effect)를 이용하여 질소를 균일하게 분사하는 장치의 조합으로 이루어진 새로운 형태의 질소가스 분사장치를 구현함으로써, 전체적인 구조가 단순할 뿐만 아니라 질소가스의 균일한 분사가 가능하고, 반도체나 LED 등의 제조공정에서 발생하는 파우더로 인한 진공펌프의 데미지를 줄일 수 있는 한편, 질소 히팅장치에 질소를 투입하는 과정에서 실링용 O-링의 주변으로 질소의 흐름이 발생하도록 하여 실링용 O-링의 온도상승으로 인한 실링성 저하를 방지할 수 있도록 함으로써, 실링 부분의 안전성 확보와 더불어 발열체에 대한 안전성도 함께 확보할 수 있는 질소가스 분사장치를 제공한다. |
