| 发明名称 | 去除电解精炼产生的沉积物的设备和方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于去除电解精炼时积聚在电极如阴极(1)表面上的沉积物的设备(4，5)，所述设备包括至少一个用于剥离沉积物(2，3)的元件和至少一个用于控制剥离元件的元件；所述设备包括至少一个可在阴极的垂直方向上旋转地移动的剥离元件(13)，并且阴极由于和所述剥离元件相接触而可以被弯曲。本发明还涉及一种通过所述设备所实现的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1890405A | 申请公布日期 | 2007.01.03 |
| 申请号 | CN200480035674.X | 申请日期 | 2004.11.26 |
| 申请人 | 奥托昆普技术公司 | 发明人 | P·努德;R·安德松 |
| 分类号 | C25C7/08(2006.01) | 主分类号 | C25C7/08(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 郭小军 |
| 主权项 | 1.一种用于去除电解精炼时积聚在电极如阴极(1)表面上的沉积物的设备(4，5)，所述设备包括至少一个用于剥离沉积物(2，3)的元件和至少一个用于控制剥离元件的元件，其特征在于，该设备包括至少一个可在阴极的垂直方向上旋转地移动的剥离元件(13)，并且阴极由于和所述剥离元件相接触而可以被弯曲。 | ||
| 地址 | 芬兰埃斯波 | ||