发明名称 一种高分子晶片之制作方法及其整合模具
摘要 本发明揭示一种高分子晶片之制作方法及其整合模具。本发明首先制作复数个单元模具,其中每一单元模具包含至少一单元图案,该单元图案定义该高分子晶片执行一功能之形貌。然后依据一晶片设计图,挑选及组合单元模具以形成一整合模具,而该单元图案则构成一整合图案。之后,以该整合模具进行一成型制程以制作该高分子晶片。该高分子晶片之表面形貌系对应于该整合图案,且该表面形貌可执行一整合功能。
申请公布号 TW587061 申请公布日期 2004.05.11
申请号 TW092121549 申请日期 2003.08.06
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 吴碧珠;杨金树
分类号 B81C5/00 主分类号 B81C5/00
代理机构 代理人
主权项 1.一种高分子晶片之制作方法,包含下列步骤:制作复数个单元模具,其中每一单元模具包含至少一单元图案,该单元图案用于定义该高分子晶片执行一特定功能之形貌;组合该复数个单元模具以形成一整合模具,该整合模具之整合图案对应于该高分子晶片之表面形貌;及利用该整合模具进行一成型制程,以制作该高分子晶片。2.如申请专利范围第1项之高分子晶片之制作方法,其中该成型制程系一热压成型、一射出成型、一铸造制程或一倒入后固化制程。3.如申请专利范围第1项之高分子晶片之制作方法,其中该高分子系可塑性聚二甲基矽氧烷。4.如申请专利范围第1项之高分子晶片之制作方法,其中该高分子系可塑性聚碳酸脂或聚丙烯酯。5.如申请专利范围第1项之高分子晶片之制作方法,其可藉由更换该单元模具以改变该高分子晶片之整合功能。6.如申请专利范围第1项之高分子晶片之制作方法,其中该单元图案系圆形,用以定义该高分子晶片之井部。7.如申请专利范围第1项之高分子晶片之制作方法,其中该单元图案系条状,用以定义该高分子晶片之流道、弯道或连续弯道。8.如申请专利范围第1项之高分子晶片之制作方法,其另包含至少一次翻制制程。9.如申请专利范围第1项之高分子晶片之制作方法,其中该单元图案可包含复数个相连之图案,该复数个相连之图案可在该单元图案中完成一特定之微流体功能,该特定之微流体功能可为液体出入口、分流、混合、分离、连结、泵、阀、排气、杂交反应或感测单元。10.如申请专利范围第1项之高分子晶片之制作方法,其另包含如下之一平整步骤:形成一液态材料于该整合模具之表面;以及固化该液态材料。11.一种高分子晶片之整合模具,其包含复数个单元模具,每一单元模具包含至少一单元图案,该单元图案对应该高分子晶片执行一特定功能之形貌。12.如申请专利范围第11项之高分子晶片之整合模具,其中该单元模具系可更换以改变该高分子晶片之整合功能。13.如申请专利范围第11项之高分子晶片之整合模具,其中该单元图案系T形。14.如申请专利范围第11项之高分子晶片之整合模具,其中该单元图案系条状,用以定义该高分子晶片之流道。15.如申请专利范围第11项之高分子晶片之整合模具,其中该单元图案系圆形,用以定义该高分子晶片之井部。16.如申请专利范围第11项之高分子晶片之整合模具,其中该单元模具系矽材质或金属材质。17.如申请专利范围第11项之高分子晶片之整合模具,其中该高分子晶片系一微流体晶片。18.如申请专利范围第11项之高分子晶片之整合模具,其中该单元图案可包含复数个相连之图案,该复数个相连之图案可在该单元图案中完成一特定之微流体功能,该特定之微流体功能可为液体出入口、分流、混合、分离、连结、泵、阀、排气、杂交反应或感测单元。图式简单说明:图1系习知制作高分子晶片之流程图;图2例示习知高分子晶片之半导体制程之示意图;图3系本发明制作高分子晶片之流程图;图4例示本发明之单元模具;图5例示高分子晶片之设计图;图6例示本发明制作高分子晶片之单元模具;图7例示本发明制作高分子晶片之整合模具;图8例示本发明制作高分子晶片之制程示意图;及图9例示本发明整合模具表面之平整制程示意图。
地址 新竹县竹东镇中兴路四段一九五号