发明名称 用于室温下低压微刻痕和毫微刻痕光刻的模板
摘要 本发明公开刻痕光刻的模板、形成和使用该模板的方法,以及模板夹持器装置。一刻痕光刻模板可包括带有在本体表面上的多个下凹的本体。本体可以是对触发光基本透明的材料。多个下凹的至少一部分可形成具有特征尺寸约小于250nm的容貌。一模板可这样形成:获得基本上对于触发光透明的材料和在模板的表面上形成多个下凹。在某些实施例中,一模板还可包括至少一个对齐标志。在某些实施例中,一模板还可包括一间隙检测区域。一刻痕光刻模板可用来在衬底上的光致固化液体内形成一刻痕层。在使用过程中,模板可放置在一模板夹持器内。该模板夹持器可包括一带有构造成接纳模板的开口的本体、一支承板,以及连接到本体上的至少一个压电致动器。在使用中,压电致动器可构造成改变模板的物理尺寸。
申请公布号 CN1531668A 申请公布日期 2004.09.22
申请号 CN01820435.X 申请日期 2001.10.12
申请人 德克萨斯州大学系统董事会 发明人 崔炳镇;S·V·斯里尼瓦桑;T·贝利;M·科尔伯恩;C·G·威尔森;J·埃克尔特
分类号 G03F7/00;G03F1/00;G03F9/00 主分类号 G03F7/00
代理机构 上海专利商标事务所 代理人 李家麟
主权项 1.一种刻痕光刻模板包括:一包括有第一表面的本体;在第一表面上的多个下凹,其中,下凹的至少一部分具有一约小于250nm的特征尺寸;以及本体上的至少一个对齐标记;其中,模板对于触发光基本上为透明的。
地址 美国得克萨斯州