| 摘要 |
本発明は、基板の放射線処理のためのシステムに関し、チャンバーの中で基板ホルダーの上方に少なくとも１つの放射源を含み、そのホルダーは、処理される基板を装備し、チャンバーは、チャンバーの中にガスフローを維持するための手段を有し、少なくとも１つのガスの入口及び少なくとも１つのガスの出口を有するシステムにおいて、少なくとも１つのガスの入口によって流れ込むガスが、ガスの出口を介して直接チャンバーを抜け出る前か、それとも、少なくとも１つの放射源の周囲を流れた後に抜け出る前に、最初に、基板ホルダーの周囲を流れるように、少なくとも１つのガスの入口が、基板ホルダーの付近に据えられるシステムである。 |
