| 发明名称 | 光刻设备和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 一种光刻投射设备，其包括：用于支承形成图案装置的支承结构，该形成图案装置用来按照所需图案为投射射束形成图案；用于保持基底的基底台；用于将形成图案射束投射在基底靶部的投射系统；连接到气体源上并提供自由基射束的向下流自由基产生源；以及用于将所述自由基射束引导在将要清理的表面上的装置。其中，该向下流自由基产生源包括位于来自气体供应装置的气体流内的高温元件，该高温元件的温度足以造成热离解以便形成自由基。本发明还提供一种器件制造方法。 | ||
| 申请公布号 | CN100456133C | 申请公布日期 | 2009.01.28 |
| 申请号 | CN200310120288.8 | 申请日期 | 2003.12.12 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | M·C·范比克;L·P·巴克;T·H·J·比斯肖普斯;J·乔克斯;M·克鲁恩;R·A·M·沃特斯;A·J·H·马亚斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 1.一种光刻投射设备，其包括：用于支承形成图案装置的支承结构，该形成图案装置用来按照所需图案为投射射束形成图案；用于保持基底的基底台；用于将形成图案射束投射在基底靶部的投射系统；连接到气体源上并提供自由基射束的向下流自由基产生源；以及用于将所述自由基射束引导在将要清理的表面上的装置，其中，该向下流自由基产生源包括位于来自气体供应装置的气体流内的高温元件，该高温元件的温度足以造成热离解以便形成自由基。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||