发明名称 电子结构及其形成方法
摘要 一种可以通过结构环氧树脂粘接剂与电子器件接合的电子结构。电子结构包括在金属片上的一矿物层、在矿物层上的一助粘剂层。金属片含有镀有或未镀金属层的金属物质,其可以包括如不锈钢、铝、钛、黄铜、镀镍黄铜和镀铬黄铜等。矿物层包括一种源自矿物的化学物质,如来自石英的SiO<SUB>2</SUB>。化学物质可以包括如二氧化硅、氮化硅和碳化硅等,其可以晶态或非晶态形式存在。助粘剂可以包括如硅烷、钛酸盐、锆酸盐和铝酸盐等。
申请公布号 CN1168135C 申请公布日期 2004.09.22
申请号 CN00121612.0 申请日期 2000.07.20
申请人 国际商业机器公司 发明人 S·L·布赫瓦尔特;H·M·丹格;M·A·加内斯;K·I·帕帕托马斯
分类号 H01L23/00;H01L21/50 主分类号 H01L23/00
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 郑建晖
主权项 1.一种电子结构,它包括:一个金属片;一个与该金属片粘接的矿物层;以及一个与该矿物层粘接的助粘剂层。
地址 美国纽约州