发明名称 由共聚物或组合物形成的膜
摘要 本发明的课题在于提供亲水性、耐磨性的均衡性优异、因水而导致的亲水性的降低少、而且耐气候性也优异的膜、能得到该膜的聚合物及聚合物组合物。本发明的膜由特定的共聚物(i)、或含有该共聚物(i)的组合物制作,所述特定的共聚物(i)在分子内具有含磺酸基团、环氧基及特定的烷氧基甲硅烷基。
申请公布号 CN105073917B 申请公布日期 2016.11.02
申请号 CN201480018593.2 申请日期 2014.04.07
申请人 三井化学株式会社 发明人 冈崎光树;塙贵行;隈茂教
分类号 C09D143/00(2006.01)I;B32B27/28(2006.01)I;C09D5/02(2006.01)I;C09D5/16(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;C09D201/02(2006.01)I;C09D201/06(2006.01)I;C09D201/10(2006.01)I 主分类号 C09D143/00(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 杨宏军;王大方
主权项 一种膜,由包含下述通式(1)、(2)及(3)所示的结构单元的共聚物(i)或含有所述共聚物(i)的组合物得到,厚度为100nm以下,<img file="FDA0001100202160000011.GIF" wi="745" he="1047" />上述式(1)、(2)及(3)中,a、b及c表示各结构单元的结构单元比,a=0.998~0.001,b=0.001~0.998,c=0.001~0.998,并且a+b+c=1,A<sup>1</sup>表示单键、碳原子数1~10的2价的烃基、下述式(1-1)所示的基团或下述式(1-2)所示的基团,A<sup>2</sup>表示单键、碳原子数1~10的2价的烃基、下述式(2-1)所示的基团或下述式(2-2)所示的基团,A<sup>3</sup>表示单键、碳原子数1~10的2价的烃基、下述式(3-1)所示的基团或下述式(3-2)所示的基团,R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>及R<sup>3</sup>独立地表示氢原子或甲基,R<sup>4</sup>独立地表示氢原子、甲基、乙基、丙基或丁基,R<sup>10</sup>表示氢原子、甲基、乙基、丙基、丁基、甲氧基、乙氧基、丙氧基或丁氧基,M表示氢原子、碱金属离子、化学价为正常价的1/2的碱土金属离子、铵离子或胺离子;下述式(1-1)、(1-2)、(2-1)、(2-2)、(3-1)及(3-2)中,n及n<sub>2</sub>独立地为1~10的整数,n<sub>1</sub>为0~10的整数,m为1~6的整数,m<sub>1</sub>为0~6的整数,l为0~4的整数,R<sup>5</sup>及R<sup>6</sup>独立地表示氢原子或甲基,*表示与SO<sub>3</sub>M键合侧的端部,**表示与环氧基键合侧的端部,***表示与Si原子键合侧的端部,<img file="FDA0001100202160000021.GIF" wi="1622" he="911" />
地址 日本东京都