发明名称 包括用于保护的含氟聚合物组合物的光电子器件
摘要 本发明的含氟聚合物组合物通常包含包括一种或多种含氟聚合物、紫外光防护组分(以下称UV防护组分)和任选的一种或多种其他成分(如果需要)的成分。UV防护组分包括至少一种具有特定结构和至少1000的重均分子量的受阻叔胺(HTA)化合物的组合。该叔胺与至少一种重均分子量大于500的有机紫外光吸收化合物(UVLA化合物)组合使用。当根据本发明原理选择HTA和UVLA化合物时,UV防护组分为含氟聚合物组合物提供明显改善的耐候性特性以保护下面的材料、特征、结构、元件等。特别地,本发明的包括UV防护组分的含氟聚合物组合物具有出乎意料地抵抗变黑、着色或其它可以由UV暴露引起的降解的更高能力。因此,预期被这些组合物保护的器件具有显著提高的使用寿命。所述组合物具有广泛的用途,但尤其是用于形成光电子器件的保护层。
申请公布号 CN103648664B 申请公布日期 2016.09.28
申请号 CN201280033523.5 申请日期 2012.07.03
申请人 陶氏环球技术有限责任公司 发明人 陈续明;P-W·S·査姆;K·E·霍华德;L·C·洛佩斯;W·C·萨姆纳;吴绍富
分类号 B05D7/04(2006.01)I;B32B27/30(2006.01)I;H01L31/048(2014.01)I;C08K5/00(2006.01)I;C08L27/18(2006.01)I 主分类号 B05D7/04(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 吴亦华
主权项 包含保护膜的光电子器件,所述保护膜包含:(a)包含至少一种含氟聚合物的含氟聚合物成分,其中小于10重量%的所述含氟聚合物成分源自于偏二氟乙烯;(b)与所述含氟聚合物成分混合的保护组分,其有助于保护所述光电子器件抵御紫外光降解,其中所述膜包含0.01至10重量份所述保护组分/100重量份所述含氟聚合物成分,并且其中所述保护组分包含:(i)至少一种重均分子量为至少500的有机UV光吸收化合物;和(ii)至少一种重均分子量为至少1000的受阻叔胺化合物,其中所述受阻叔胺包含含有叔胺部分的环部分,其中所述胺部分的氮原子是所述环部分的骨架成分并且是N‑取代的,其中所述受阻叔胺化合物不包括伯胺或仲胺部分,并且其中所述至少一种有机UV光吸收化合物与所述至少一种受阻叔胺化合物的重量比在1:50至50:1的范围内。
地址 美国密歇根州