发明名称 PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND OPTICAL SYSTEM
摘要 <p>Eine Projektionsbelichtungsanlage (1) ist mit einer Beleuchtungseinrichtung (3) und einem Projektionsobjektiv (7) versehen. Wenigstens ein optisches Element (10) ist mit einem eine Antriebseinrichtung (11) aufweisenden Manipulator versehen. Die Antriebseinrichtung (11) weist wenigstens ein bewegliches Teilelement (12) und wenigstens ein feststehendes Teilelement (13) auf, welche relativ zueinander in wenigstens einer Bewegungsrichtung beweglich sind. Die Antriebseinrichtung (11) ist als Direktantrieb derart ausgebildet, dass das optische Element (10) bis zu 1.000 µm mit einer Genauigkeit von 10nm in wenigstens zwei Freiheitsgraden verschiebbar ist.</p>
申请公布号 WO2008022797(A1) 申请公布日期 2008.02.28
申请号 WO2007EP07448 申请日期 2007.08.24
申请人 CARL ZEISS SMT AG;BLEIDISTEL, SASCHA;GEUPPERT, BERNHARD 发明人 BLEIDISTEL, SASCHA;GEUPPERT, BERNHARD
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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