Verfahren zum Glätten einer Oberfläche und optisches Element

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Glätten einer Oberfläche, insbesondere einer optischen Oberfläche (2), umfassend: Plasmachemisches Ätzen der Oberfläche (2) durch Bewegen eines Plasmastrahls (7) und der Oberfläche (2) relativ zueinander, sowie nachfolgendes Teilchenstrahlbearbeiten der Oberfläche (2) durch Bewegen eines Teilchenstrahls, insbesondere eines Ionenstrahls (11), und der Oberfläche (2) relativ zueinander. Die Erfindung betrifft auch ein reflektives optisches Element für die EUV-Lithographie, umfassend: ein Substrat (1), sowie eine optische Oberfläche (2), wobei auf die optische Oberfläche (2) eine für EUV-Strahlung reflektierende Beschichtung aufgebracht ist. Die optische Oberfläche (2) weist eine Rauheit Rq von weniger als 1,0 nm rms bei Ortswellenlängen von weniger als 10 µm, bevorzugt bei Ortswellenlängen von weniger als 30 µm, auf.