发明名称 CURABLE COMPOSITION FOR IMPRINTS PATTERNING METHOD AND PATTERN
摘要 (과제) 경화성 조성물을 시간이 경과했을 때에도 안정적으로 패턴을 형성할 수 있는 높은 시간 경과적 안정성을 갖고, 또한, 기판 가공 용도에 요구되는 높은 에칭 내성을 갖는 임프린트 리소그래피에 사용할 수 있는 임프린트용 경화성 조성물의 제공. (해결수단) 1 종 이상의 중합성 단량체와, 광중합 개시제를 함유하는 임프린트용 경화성 조성물로서, 상기 중합성 단량체로서 적어도 1 종의 하기 식으로 나타내는 중합성 단량체 (Ax) 를 함유하고, (A) 하기 식으로 나타내는 중합성 단량체 (Ax) 를 전체 중합성 단량체에 대하여 45 질량% 이상 함유하는 및/또는 (B) 25 ℃ 에서 고체인 중합성 단량체와 25 ℃ 에서의 점도가 70 mPa·s 이상인 중합성 단량체의 합계 함유량이, 상기 임프린트용 경화성 조성물에 함유되는 전체 중합성 단량체의 50 질량% 미만의 조건을 만족한다.
申请公布号 KR101690322(B1) 申请公布日期 2016.12.27
申请号 KR20090061958 申请日期 2009.07.08
申请人 후지필름 가부시키가이샤 发明人 고다마 구니히코;후지타 아키노리
分类号 G03F7/027;G03F7/028 主分类号 G03F7/027
代理机构 代理人
主权项
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