发明名称 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法
摘要 Provided is an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that simultaneously achieves excellent developability and excellent immersion-liquid tracking properties, and a method of forming a pattern using the same. The composition contains a resin (B) containing at least either a fluorine atom or a silicon atom, the resin (B) containing any of repeating units of general formula (I) below.
申请公布号 JP5719536(B2) 申请公布日期 2015.05.20
申请号 JP20100159093 申请日期 2010.07.13
申请人 富士フイルム株式会社 发明人 飯塚 裕介;渋谷 明規;高橋 秀知;福原 敏明;越島 康介
分类号 G03F7/039;G03F7/004;G03F7/38;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
主权项
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