发明名称 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 |
摘要 |
Provided is an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that simultaneously achieves excellent developability and excellent immersion-liquid tracking properties, and a method of forming a pattern using the same. The composition contains a resin (B) containing at least either a fluorine atom or a silicon atom, the resin (B) containing any of repeating units of general formula (I) below. |
申请公布号 |
JP5719536(B2) |
申请公布日期 |
2015.05.20 |
申请号 |
JP20100159093 |
申请日期 |
2010.07.13 |
申请人 |
富士フイルム株式会社 |
发明人 |
飯塚 裕介;渋谷 明規;高橋 秀知;福原 敏明;越島 康介 |
分类号 |
G03F7/039;G03F7/004;G03F7/38;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/039 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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