| 主权项 |
1.一种用以获致流体物质中之颗粒物尺寸之计量値之粒度计量装置,其中包括:a 具有设裂于其中供包含待计量颗粒物之流体物质通过之一样品通路之一探针头部份;b 产生由多条单独光线构成之一光束之一光源;c 与光源成光学耦合之光输送装置,光输送装置能自光源输送光束;d 安装在探针头部份内之位于样品通路一策之一第一聚焦装置,第一聚焦装置与光输送装置成光学耦合而接收光束,第一聚焦装置光束聚焦将通过样品通路,故样品通路中流体物质所包含之颗粒物使通过样品通路之光束之各单独光线放射:e 安装在探针头部份内之位于样品通路另一例对准第一剧焦装置之第二聚焦装置,第二聚焦装置收集在通过样品通路过程中被扩散之光线;及f 与第二聚焦装置成光学耦合之接收其散射及照准光线之检波器装置,检波器装置根据所接收之散射光线之光强度而发出与使通过样品通路之光线构散之颗粒物之尺寸相关之信号。2.根据申请专利范围第1项之粒度计量装置,其中光源包括一雷射。3.根据申请专利范围第2项之粒度计量装置,其中雷射包括氦氖雷射。4. 根据申请专利范围第2项之粒度计量装置,其中雷射包括半导体雷射。5.根据申请专利范围第2项之粒度计量装置,其中光输送装置包括一光学纤维缆。6.根据申请专利范围第5项之粒度计量装置,其中第一聚焦装置包括第一消色透镜。7.根据申请专利范围第6项之粒度计量装置,其中第一剧焦装置亦包括保持第一消色透镜在探针头部份内成安装关系之第一透镜架装置,第一透镜架具有设制于其上供光束通过之第一孔。8.根据申请专利范围第7项之粒度计量装置,其中第二聚焦装置包括第二消色透镜。9.根据申请专利范围第8项之粒度计量装置,其中第二聚焦装置亦包括保持第二消色透镜在探针头部份内成安装关系之第二透镜架装置,第二透镜架具有设制于其上供光束通过之第二孔。10.根据申请专利范围第9项之粒度计量装置,其中第二消色透镜大于第一消色透镜。11.根据申请专利范围第10项之粒度计量置,其中第二孔大于第一孔。12.根据申请专利范围第11项之粒度计量装置,其中检波器装置包括具有设裂于其中之多个径向环之一环形元件。13.根据申请专利范围第12项之粒度计量装置,其中拉波器装置亦包括多组光学纤维,每一组光学纤维缆与环形元件之多个径向环之一成光学耦合。14.根据申请专利范围第2项之粒度计量装置,其中检波器接置亦包括多値光学二极体,每一光电二极体与一组光学纤维缆成光学耦合。图示简单说明:图1为能用于根据本创作制成之粒度计量装置之光源部份之一种具体实例之侧面图。图1a为能用于根据本创作制成之粒度计量装置之光源部份之另一种具体实例之概图。图2为根据本创作制成之粒度计量装置之探针头部份之部份断面侧面图。图3为沿图2之线3-3所取之探针头部份之断面图。图4为沿图2之线4-4所取之探针头部份之断面图。图5为沿图2之线5-5所取之探针头部份之断面图。图6为根据本创作制成之粒度计量装置之一段探针头部份之断面图,显示探针头部份之某些构件间之相互关系。 |
