| 主权项 |
1.一种藉由将铁轨或其部份由沃斯田铁结构变态为在室温下稳定之不同的微结构,而用于硬化铁轨或其部份的方法,该方法包含有:对齐、水平地定位,与轴向对齐固定,以无弯曲之虞,该铁轨为沃斯田铁状态;以及当将铁轨维持在轴向对齐固定且无弯曲之虞时,将铁轨或其部份进行强制冷却,以允许沃斯田铁结构变态为该不同的微结构。2.如申请专利范围第1项之方法,其中铁轨系由其Ac3点以上的第一个温度被强制冷却至低于该Ac3点以下的第二个温度。3.如申请专利范围第1项之方法,其中铁轨包含有一轨头,且仅有轨头被强制冷却。4.如申请专利范围第1项之方法,其中对齐、水平地定位与轴向对齐固定系于最终完成的滚轧道次(rolling pass)之后立即进行。5.如申请专利范围第1项之方法,其中铁轨包含有一轨头,并以竖立的位置被固定,轨头指向上。6.如申请专利范围第1项之方法,其中铁轨包含有一轨头,并以悬垂的位置被固定,轨头指向下。7.如申请专利范围第3项之方法,其中铁轨包含有一轨头,并以悬垂的位置被固定,轨头指向下。8.如申请专利范围第1项之方法,其中铁轨或其部份系以喷雾冷却进行强制冷却。9.如申请专利范围第5项之方法,其中铁轨或其部份系以喷雾冷却进行强制冷却。10.如申请专利范围第8项之方法,其中在对称于铁轨之高度轴的横剖面表面区域(以纵向观之)中使用相同地高冷却强度时,进行喷雾冷却。11.如申请专利范围第1项之方法,其中铁轨或其部份系藉由将其潜浸于一冷却液中而被强制冷却。12.如申请专利范围第7项之方法,其中轨头系藉由将其潜浸于一冷却液中而被强制冷却。13.如申请专利范围第5项之方法,其中铁轨或其部份可在至少一段时间及横剖面之表面区域的至少一位置上,间歇地被强制冷却。14.如申请专利范围第4项之方法,其中在强制冷却后,铁轨被松开,并维持在高温。15.如申请专利范围第1项之方法,其中在强制冷却后,铁轨被松开,并任由在周围空气中冷却。16.如申请专利范围第3项之方法,其中铁轨长度至少为约50公尺。17.如申请专利范围第1项之方法,其中铁轨长度至少为约90公尺。18.如申请专利范围第17项之方法,其中铁轨或其部份于整个长度上被强制冷却。19.如申请专利范围第4项之方法,其中铁轨系藉由配置于铁轨纵向上的固定元件,而以轴向对齐的方式固定,该固定元件彼此间距不超过约1公尺。20.如申请专利范围第19项之方法,其中铁轨包含有轨脚,且该固定元件可被设计以将轨脚维持在一固定的位置。21.一种藉由将铁轨或其部份由Ac3点以上的温度从沃斯田铁结构变态为在室温下稳定之不同微结构,而用于硬化铁轨或其部份的方法,该方法包含有:在最终完成的滚轧道次之后立即进行对齐、水平地定位与轴向对齐固定,以无弯曲之虞,该铁轨为在Ac3点以上之第一个温度的沃斯田铁状态;以及当将铁轨维持在轴向对齐固定且无弯曲之虞时,将铁轨或其部份在整个长度上进行强制冷却至一第二个温度,以允许沃斯田铁结构变态为该不同的微结构;铁轨长度至少为约90公尺,并藉由配置于铁轨纵向上的固定元件,而以轴向对齐的方式固定于轨脚,该固定元件彼此间距不超过约0.5公尺。22.一种藉由强制冷却而用于将铁轨或其部份硬化的装置,该装置包含有:一支撑架,用于支撑铁轨;一冷却装置,用于冷却铁轨或其部份;以及至少二个固定装置,用于在强制冷却期间,进行轴向对齐并避免铁轨弯曲。23.如申请专利范围第22项之装置,其中该支撑架包含有一具有高抗弯曲性的支撑结构。24.如申请专利范围第23项之装置,其中固定装置包含有选自于定位元件、可拆式夹钳元件、压制元件及其组合中之至少一个元件。25.如申请专利范围第24项之装置,其中该装置包含有至少三个固定装置。26.如申请专利范围第25项之装置,其中该固定装置系以彼此不超过约1公尺的距离,而在支撑结构的纵向上排列。27.如申请专利范围第26项之装置,其中该固定装置系以彼此不超过约0.5公尺的距离,而在支撑结构的纵向上排列。28.如申请专利范围第22项之装置,其中该固定装置可水平地对齐。29.如申请专利范围第28项之装置,其中铁轨包含有一轨脚,且至少一固定装置包含有一定位元件,用于接触轨脚的上表面;以及一压制元件,用于接触轨脚的下表面。30.如申请专利范围第22项之装置,其中至少一个固定装置包含有一对可拆式夹钳元件,其具有用于接触铁轨之水平排列的对齐表面。31.如申请专利范围第23项之装置,其中该支撑结构包含有一焊接结构,其具有固定装置水平排列于其上。32.如申请专利范围第24项之装置,其中与铁轨接触之该固定装置的一个或多个元件具有减少与铁轨之接触面积的形状。33.如申请专利范围第32项之装置,其中与铁轨接触之该固定装置的一个或多个元件为楔形。34.如申请专利范围第22项之装置,其中冷却装置包含具有至少空气或水之一的一喷雾轨道。35.如申请专利范围第22项之装置,其中冷却装置包含具有一冷却液的一潜浸池。36.如申请专利范围第24项之装置,其中支撑架与冷却装置可在铁轨的直立方向上,于横剖面相对于彼此移动。37.如申请专利范围第35项之装置,其中支撑架系与一潜浸池连接,且该潜浸池具有包含水平对齐定位元件的固定装置。38.如申请专利范围第24项之装置,其中压制元件为压紧砝码的形式。39.如申请专利范围第22项之装置,其中该装置包含有至少100个固定装置,各该装置包含有选自于定位元件、可拆式夹钳元件、压制元件及其组合中之至少一个元件,该固定装置系以彼此不超过约0.5公尺的距离,而在支撑结构的纵向上排列,其中该支撑架包含有一高抗弯曲性的焊接支撑结构,以及其中该冷却装置包含具有至少空气或水之一的一喷雾轨道。图式简单说明:图1表示一种用于悬垂铁轨以进行潜浸回火之具有一直立配置之固定装置的装置图2表示一种用于将竖立铁轨进行喷雾回火的装置图3表示一种具有可旋转定位之固定元件的装置图4表示一种具有压紧砝码作为压制元件的装置 |
