| 摘要 |
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 챔버, 지지 유닛, 가스 공급 유닛, 플라스마 소스 및 검출 유닛 등을 포함한다. 검출 유닛은 조사 부재, 수광 부재 및 판단 부재를 포함한다. 조사 부재는 광을 기판 또는 기판에 인접한 방향을 향해 조사하고, 수광 부재는 리프트 핀 또는 기판의 상태에 따라 광을 수광할 수 있는 위치에 배치되며, 판단 부재는 수광 부재가 광을 수광하는지 여부에 따라 리프트 핀 또는 기판의 상태를 판단한다. |
