| 摘要 |
본 고안은 처리액이 분사되는 노즐 간격을 손쉽게 조절함과 동시에 노즐의 전체 구간에 걸쳐 편차없이 균일한 정도의 간격 조절을 가능하게 함으로써 기판표면처리를 위한 다양한 공정별 용도에 맞추어 나이프를 호환성있게 사용할 수 있도록 하는 노즐 간격 조절이 가능한 나이프를 제공함에 그 목적이 있다. 이를 실현하기 위한 본 고안은, 처리액 공급라인(163)을 대향면 사이에 형성하며 결합되는 제1블록(110)과 제2블록(120); 상기 제2블록(120)과 대향되며 상기 제1블록(110)의 하부 일측에 수용 결합되어 상기 제2블록(120)과의 대향면 사이에 상기 처리액 공급라인(163)과 연결되는 노즐(165)을 형성하는 제3블록(130); 및 상기 제1블록(110)의 외측에서 상기 제2블록(120)의 전후진 조절이 가능하도록 상기 제1블록(110)을 관통한 후 상기 제2블록(120)에 결합되어 상기 제2블록(120)과 제3블록(130)의 대향면 사이에 형성되는 상기 노즐(165)의 간격(g)을 조절하는 간격조절수단(140)을 포함한다. |
