发明名称 MULTILAYER REFLECTIVE MIRROR METHOD FOR PRODUCING SAME AND EXPOSURE DEVICE
摘要 입사하는 광을 반사하는 다층막 반사 미러로서, 기판과, 기판의 표면에 Mo층 및 Si층을 교대로 적층하여 형성된 제 1 다층막과, 제 1 다층막 상에 형성되고, 제 1 다층막에 대해 박리 가능한 박리층과, 박리층 상에 Mo층 및 Si층을 교대로 적층하여 형성된 제 2 다층막을 구비하며, 제 2 다층막은, 박리층을 산에 의한 용해에 의해 박리하는 것에 의해 박리층과 함께 제거 가능하다. 다층막 반사 미러의 반사율이 저하한 경우에, 간단한 공정으로 그 반사율을 높게 할 수 있다.
申请公布号 KR20160124878(A) 申请公布日期 2016.10.28
申请号 KR20167026172 申请日期 2015.02.24
申请人 NIKON CORPORATION 发明人 MURAKAMI KATSUHIKO
分类号 G02B5/08 主分类号 G02B5/08
代理机构 代理人
主权项
地址