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发明名称
聚酯系聚合物之处理方法及低沸点成分含量少之聚酯系聚合物
摘要
本发明聚酯系聚合物之处理方法,其特征为使藉由(A)具有羟基及/或酯键之聚合物与(B)含有ε-己内酯之环状酯类开环聚合所得的聚酯系聚合物(C),在固体状态、115℃~170℃下且加热至小于聚酯系聚合物(C)之熔点,自藉由聚合所得的聚合物(C)除去有机低沸点成份(v)的方法,藉由本发明可制得聚酯系聚合物中之ε-己内酯及己内酯二聚物之树脂物性恶化或变化、及色相恶化情形充分除去、及经济性不会降低的聚酯系聚合物。
申请公布号
TW200302237
申请公布日期
2003.08.01
申请号
TW092100372
申请日期
2003.01.09
申请人
戴西尔化学工业股份有限公司
发明人
渡部淳
分类号
C08G63/06
主分类号
C08G63/06
代理机构
代理人
何金涂;何秋远
主权项
地址
日本
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