发明名称 镜头模组及应用该镜头模组之携带式电子装置
摘要 一种镜头模组,其包括一镜筒,一镜片,置于镜筒内,分别与镜筒紧密配合,一影像获取单元,位于镜筒后,其中该镜头模组进一步包括一反射体、一发射单元,该反射体设置于镜筒及影像获取单元之间且可于垂直两者之连线方向移动一定距离,该发射单元设置于该反射体移动方向上,并与该反射体有一定间距。
申请公布号 TWM244451 申请公布日期 2004.09.21
申请号 TW092220211 申请日期 2003.11.14
申请人 鸿海精密工业股份有限公司 发明人 李俊佑;蔡明江;江宗韦
分类号 G02B27/20 主分类号 G02B27/20
代理机构 代理人
主权项 1.一种镜头模组,其包括:一镜筒;一镜片,置于镜筒内,与镜筒紧密配合;一影像获取单元,位于镜筒后;其中,该镜头模组进一步包括一反射体、一发射单元,该反射体设置于镜筒及影像获取单元之间,该发光单元与反射体相对,并与该反射体有一定间距。2.如申请专利范围第1项所述之镜头模组,其中该发射单元系一发光二极体。3.如申请专利范围第1项所述之镜头模组,其中该发射单元系一雷射二极体。4.如申请专利范围第2项或第3项所述之镜头模组,其中该反射体系一梯形物,该梯形物固定设置于镜筒与影像获取单元之间。5.如申请专利范围第4项所述之镜头模组,其中该梯形物包括二侧面,其分别可与所述发光二极体或雷射二极体相对。6.如申请专利范围第5项所述之镜头模组,其中该二侧面皆为全反射面。7.如申请专利范围第6项所述之镜头模组,其中该梯形物进一步包括一顶面及一底面。8.如申请专利范围第7项所述之镜头模组,其中该顶面及底面皆镀有红外截止镀膜。9.如申请专利范围第7项所述之镜头模组,其中该顶面及底面皆镀有抗反射膜。10.如申请专利范围第8项所述之镜头模组,其中该影像获取单元系一CCD影像感测元件。11.如申请专利范围第8项所述之镜头模组,其中该影像获取单元系一CMOS影像感测元件。12.如申请专利范围第9项所述之镜头模组,其中该影像获取单元系一胶片。13.如申请专利范围第2项或第3项所述之镜头模组,其中该反射体系一锥形体,该锥形体可于镜筒与影像获取单元连线之垂直方向上平行移动一定距离。14.如申请专利范围第13项所述之镜头模组,其中该锥形体系一具三等腰直角三角形侧面。15.如申请专利范围第14项所述之镜头模组,其中该二等腰三角形面与雷射二极体或发光二极体相对。16.一种镜头模组,其包括:一镜筒;一镜片,置于镜筒内,与镜筒紧密配合;一影像获取单元,位于镜筒后;其中,该镜头模组进一步包括一反射体、一发光二极体及一雷射二极体,该反射体设置于镜筒及影像获取单元之间,且可于两者连线之垂直方向上平行移动一定距离,该发光二极体及雷射二极体与反射体相对,并与该反射体有一定间距。17.如申请专利范围第16项所述之镜头模组,其中该发光二极体及雷射二极体分别设置于该反射体两侧。18.如申请专利范围第17项所述之镜头模组,其中该反射体系一梯形物。19.如申请专利范围第18项所述之镜头模组,其中该梯形物包括二侧面,其分别与所述发光二极体及雷射二极体相对。20.如申请专利范围第19项所述之镜头模组,其中该二侧面皆为全反射面。21.如申请专利范围第20项所述之镜头模组,其中该梯形物进一步包括一顶面及一底面。22.如申请专利范围第21项所述之镜头模组,其中该顶面及底面皆镀有红外截止镀膜。23.如申请专利范围第21项所述之镜头模组,其中该顶面及底面皆镀有抗反射膜。24.如申请专利范围第22项所述之镜头模组,其中该影像获取单元系一CCD影像感测元件。25.如申请专利范围第22项所述之镜头模组,其中该影像获取单元系一CMOS影像感测元件。26.如申请专利范围第23项所述之镜头模组,其中该影像获取单元系一胶片。27.如申请专利范围第17项所述之镜头模组,其中该反射体系一锥形体。28.如申请专利范围第27项所述之镜头模组,其中该锥形体系一具三等腰直角三角形侧面。29.如申请专利范围第28项所述之镜头模组,其中该二等腰三角形面分别与雷射二极体及发光二极体相对。30.一种应用申请专利范围第1项所述之镜头模组之携带式电子装置,其包括:一本体;一镜头模组,设置于该本体内;其中该镜头模组包括:一镜筒;一镜片,置于镜筒内,分别与镜筒紧密配合;一影像获取单元,位于镜筒后;其中,该镜头模组进一步包括一反射体、一发光单元,该反射体设置于镜筒及影像获取单元之间,该发光单元与反射体相对,并与该反射体有一定间距。31.如申请专利范围第30项所述之携带式电子装置,其中于携带式电子装置之表面设置有控制按钮,用以控制该发光单元之接通及断开及反射体之位置移动。32.如申请专利范围第31项所述之镜头模组,其中该发光单元系一发光二极体。33.如申请专利范围第31项所述之镜头模组,其中该发光单元系一雷射二极体。34.如申请专利范围第32项或第33项所述之镜头模组,其中该反射体系一梯形物,该梯形物固定设置于镜筒与影像获取单元之间。35.如申请专利范围第34项所述之携带式电子装置,其中该梯形物包括二侧面,其分别与所述发光二极体及雷射二极体相对。36.如申请专利范围第35项所述之携带式电子装置,其中该二侧面皆为全反射面。37.如申请专利范围第36项所述之携带式电子装置,其中该梯形物进一步包括一顶面及一底面。38.如申请专利范围第37项所述之携带式电子装置,其中该顶面及底面皆镀有红外截止镀膜。39.如申请专利范围第37项所述之携带式电子装置,其中该顶面及底面皆镀有抗反射膜。40.如申请专利范围第38项所述之携带式电子装置,其中该影像获取单元系一CCD影像感测元件。41.如申请专利范围第38项所述之携带式电子装置,其中该影像获取单元系一CMOS影像感测元件。42.如申请专利范围第39项所述之携带式电子装置,其中该影像获取单元系一胶片。43.如申请专利范围第32项或第33项所述之携带式电子装置,其中该反射体系一锥形体,该锥形体可于镜筒与影像获取单元连线之垂直方向上平行移动一定距离。44.如申请专利范围第43项所述之携带式电子装置,其中该锥形体系一具三等腰直角三角形侧面。45.如申请专利范围第44项所述之携带式电子装置,其中该二等腰三角形面与雷射二极体或发光二极体相对。图式简单说明:第一图系习知镜头模组之示意图;第二图系本创作镜头模组第一实施例之用于成像系统之示意图;第三图系本创作镜头模组第一实施例之用于照明之示意图;第四图系本创作镜头模组第一实施例之用于雷射指示之示意图;第五图系本创作镜头模组之第二实施例之用于成像系统之示意图;第六图系本创作镜头模组第二实施例之用于照明之示意图;第七图系本创作镜头模组第二实施例之用于雷射指示之示意图。
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