发明名称 | 影像感测器元件及其制造方法 | ||
摘要 | 一种影像感测器元件的制造方法,此方法系先提供一基底,且此基底中已形成有复数个沟渠。之后,于这些沟渠表面形成第一抗反射层。然后,于这些沟渠中填入绝缘层,以形成复数个浅沟渠隔离区。接着,于相邻之浅沟渠隔离区之间的基底中形成至少一光感测区。继之,形成第二抗反射层,以至少覆盖光感测区。由于在沟渠表面形成第一反抗层以及在光感测区上形成第二抗反射层,因此可以改善影像感测器元件的灵敏度。 | ||
申请公布号 | TW200531295 | 申请公布日期 | 2005.09.16 |
申请号 | TW093106619 | 申请日期 | 2004.03.12 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 施俊吉;蔡明桦;谭宗涵;吴心平;林家辉 |
分类号 | H01L31/00 | 主分类号 | H01L31/00 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 |