| 摘要 |
以光学石版方法构成光罩的一种方法包括以下的步骤：在一块透明基板的主表面上以不透明材料构成岛状结构；沈积至少一层透明材料于主基板表面的岛状结构上；沈积一层光阻材料于该至少一个透明层上；将相对于主基板表面的一个背侧基板表面暴露于紫外光下以便得大致上相当于岛状结构之阴影外的一个区域的至少一部份的光阻曝光；经由在紫外光曝光前沈积一个非镜面层于光阻层上而将至少一部份的紫外光线反射回到光阻层中，而使得在岛状结构阴影内的一段选定之重叠距离以内的另一部份光阻曝光；而后去除经过曝光的光阻部份而构成对准于岛状结构并且在其各边比岛状结构窄小一段选定之重叠距离的一个遮蔽罩。 |
