发明名称 流化床喷射粉磨方法及装置
摘要 1. 流化床喷射粉磨方法和装置。2.1本发明的目的是以在一个粒状材料流化床中待粉碎的材料增加气体或蒸气喷射的负载以便能有效地利用喷的能量。2.2因为由一个喷嘴释出的喷射动量值在喷嘴截面的周边区域之中在一个最小值和一个最大值之间改变至少两次而且相同于或者小于喷嘴截面的核心区域之中的周边区域的最小值,这个问题被加以解决。2.3在喷射一离开喷嘴之后的低动量区域之中,将形成由喷射的周边至核心区域的压力降,所以将构成与喷射的流向成直角的流动通道,将被粉碎的材料颗粒将由此被直接吸喷射入的中心内,并在该处于喷射行进过程中被加速至粉碎作用所需的冲击速度。
申请公布号 TW246650 申请公布日期 1995.05.01
申请号 TW082110798 申请日期 1993.12.20
申请人 贺梭卡瓦阿尔派公司 发明人 史帝芬诺.詹皮尼
分类号 B24C5/00 主分类号 B24C5/00
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1.利用导入以高速离开一喷嘴的至少一气体或蒸气喷射至材料的流化床内而进行冲击粉碎作业的方法,其特征在于离开喷嘴后喷射动量的値在喷嘴截面的周边区域之中在一个最小値和最大値之间至少改变两次而且相同于或小于喷嘴截面的核心区域中的周边区域的最小値。2.依据申请专利范围第1项的方法,其特征在于喷射动量在有最小値的点处其値为零。3.依据申请专利范围第1或2项的方法,其特征在于具有互为最大和最小喷射动量的喷嘴截面的所有次截面具有大致上相同的値。4.依据申请专利范围第1项的方法,其特征在于喷射动量由一个最小値至一个最大値的转变不连续地发生。5.依据申请专利范围第1项的方法,其特征在于喷嘴截面的每一个次截面之中的射出流平行于中央喷嘴轴心(9)。6.依据申请专利范围第1项的方法,其特征在于喷嘴截面的每一个次截面中的射出流对准离开中央喷嘴轴心(9)的方向。7.依据申请专利范围第1项的方法,其特征在于喷嘴截面的每一个次截面中的射出流指向中央喷嘴轴心(9)。8.依据申请专利范围第7项的方法,其特征在于来自喷嘴截面的每一个次截面的射出流指向中央喷嘴轴心(9)上的一个共同点。9.实现依据申请专利范围第1项的方法的装置,其特征在于将被安装于一个固定座中以产生喷射的一个喷嘴元件,具有均匀地分布于喷嘴元件的截面上的不同形状和尺寸的至少两个射出点(8)。10.依据申请专利范围第9项的装置,其特征在于射出点(8)被设置于其边界代表包围射出点(8)的一个没有弯折点的封套曲线的一个区域内。11.依据申请专利范围第9或10项的装置,其特征在于射出点(8)被设计为圆形截面。图1显示喷射截面的速度分布。图2概略显示射出截面10和喷射截面11c流动模式的透视图。图3显示沿着位于两个射出点8之间的中心的中
地址 德国