| 主权项 |
1.一种印章画像制作方法,其特征为:以对应于凸部之阳点表现成为对象之印章的画像,并记忆以对应于凹部之阴点表现上述画像之空白部分之阳刻资料的阳刻资料记忆工程,及读出上述阳刻资料之同时,依照该阳刻资料及规定阴刻之外框的资料,制作以阴点表现上述画像,并以阳点表现上述空白部分之阴刻资料的阴刻资料制作工程,所成者。2.一种印章画像制作方法,其特征为:以对应于凸部之阳点表现成为对象之印章的画像,并记忆以对应于凹部之阴点表现上述画像之空白部分之阳刻基础资料的阳刻基础资料记忆工程,及读出上述阳刻基础资料之同时,藉扩幅上述阳刻基础资料之上述阳点所成的阳点群,制作以阳点表现经扩幅上述画像之强调画像,并以阴点表现留下之空白部分之阳刻资料的阳刻资料强调工程,及依照上述阳刻资料,制作以阴点表现上述强调画像,并以阳点表现上述留下之空白部分之阴刻资料的阴刻资料制作工程,所成者。3.如申请专利范围第1项或第2项所述之印章画像制作方法,其中,上述阴刻制作工程,系具有反转上述阳刻资料之各点的阳点与阴点之关系,并制作阴刻基础资料的反转逻辑资料制作工程,及以阳点表现用印章本体之印章部外形所围绕的内侧部分,并记忆以阴点表现外侧部分之印章外形资料的印章外形资料记忆工程,及读出上述印章外形资料之同时,演算上述阴刻基础资料与上述印章外形资料之互相地对应的点彼此间的逻辑积,并制作以该演算结果之各点作为要素之上述阴刻资料的外形逻辑积资料制作工程。4.如申请专利范围第1项或第2项所述之印章画像制作方法,其中,上述阴刻制作工程,系具有反转上述阳刻资料之各点的阳点与阴点之关系,并制作反转逻辑资料的反转逻辑资料制作工程,及以阳点表现阴刻外框与其内侧,并记忆以阴点表现上述阴刻外框外侧之阴刻外框外形资料的阴刻外框外形资料记忆工程,及读取上述阴刻外框外形资料之同时,演算上述反转逻辑资料与上述阴刻外框外形资料之互相地对应的点彼此间的逻辑积,并制作以该演算结果之各点作为要素之上述阴刻资料的外框逻辑积资料制作工程。5.如申请专利范围第1项或第2项所述之印章画像制作方法,其中,上述阴刻制作工程,系具有以阳点表现具有所定宽度之阴刻外框的资讯,并记忆以阴点表现上述阴刻外框之内侧之阴刻外框资料的阴刻外框资料记忆工程,及读出上述阴刻外框资料之同时,演算上述阳刻资料与上述阴刻外框资料之互相地对应的点彼此间的排斥性逻辑和,并制作以该演算结果之各点作为要素之排斥逻辑资料的排斥逻辑资料制作工程,及反转对应于上述排斥逻辑资料之上述阴刻外框内侧的各点之阳点与阴点之关系,制作上述阴刻资料的内侧资料反转工程。6.如申请专利范围第1项或第2项所述之印章画像制作方法,其中,上述阴刻制作工程,系具有反转上述阳刻资料之各点的阳点与阴点之关系,并制作反转逻辑资料的反转逻辑资料制作工程,及以阳点表现阴刻外框与其内侧,并记忆以阴点表现上述阴刻外框外侧之阴刻外框外形资料的阴刻外框外形资料记忆工程,及读取上述阴刻外框外形资料之同时,演算上述反转逻辑资料与上述阴刻外框外形资料之互相地对应的点彼此间的逻辑积,并制作以该演算结果之各点作为要素之上述阴刻资料的外框逻辑积资料制作工程,及以阳点表现用印章本体之印章部外形所围绕的内侧部分,并记忆以阴点表现外侧部分之印章外形资料的印章外形资料记忆工程,及读出上述印章外形资料之同时,演算上述阴刻基础资料与上述印章外形资料之互相地对应的点彼此间的逻辑积,并制作以该演算结果之各点作为要素之上述阴刻资料的外形逻辑积资料制作工程。7.如申请专利范围第1项或第2项所述之印章画像制作方法,其中,上述阴刻制作工程,系具有以阳点表现具有所定宽度之阴刻外框的资讯,并记忆以阴点表现上述阴刻外框之内侧之阴刻外框资料的阴刻外框资料记忆工程,及读出上述阴刻外框资料之同时,演算上述阳刻资料与上述阴刻外框资料之互相地对应的点彼此间的排斥性逻辑和,并制作以该演算结果之各点作为要素之排斥逻辑资料的排斥逻辑资料制作工程,及反转对应于上述排斥逻辑资料之上述阴刻外框内侧的各点之阳点与阴点之关系,制作上述阴刻资料的内侧资料反转工程,以阳点表现用印章本体之印章部外形所围绕的内侧部分,并记忆以阴点表现外侧部分之印章外形资料的印章外形资料记忆工程,及读出上述印章外形资料之同时,演算上述阴刻基础资料与上述印章外形资料之互相地对应的点彼此间的逻辑积,并制作以该演算结果之各点作为要素之上述阴刻资料的外形逻辑积资料制作工程。8.一种印章画像制作装置,其特征为:以对应于凸部之阳点表现成为对象之印章的画像,并记忆以对应于凹部之阴点表现上述画像之空白部分之阳刻资料的阳刻资料记忆手段,及读出上述阳刻资料之同时,依照该阳刻资料及规定阴刻之外框的资料,制作以阴点表现上述画像,并以阳点表现上述空白部分之阴刻资料的阴刻资料制作手段,所成者。9.一种印章画像制作装置,其特征为:以对应于凸部之阳点表现成为对象之印章的画像,并记忆以对应于凹部之阴点表现上述画像之空白部分之阳刻基础资料的阳刻基础资料记忆手段,及读出上述阳刻基础资料之同时,藉扩幅上述阳刻基础资料之上述阳点所成的阳点群,制作以阳点表现经扩幅上述画像之强调画像,并以阴点表现留下之空白部分之阳刻资料的阳刻资料强调手段,及依照上述阳刻资料,制作以阴点表现上述强调画像,并以阳点表现上述留下之空白部分之阴刻资料的阴刻资料制作手段。所成者。10.如申请专利范围第8项或第9项所述之印章画像制作装置,其中,上述阴刻制作手段,系具有反转上述阳刻资料之各点的阳点与阴点之关系,并制作阴刻基础资料的反转逻辑资料制作手段,及以阳点表现用印章本体之印章部外形所围绕的内侧部分,并记忆以阴点表现外侧部分之印章外形资料的印章外形资料记忆手段,及读出上述印章外形资料之同时,演算上述阴刻基础资料与上述印章外形资料之互相地对应的点彼此间的逻辑积,并制作以该演算结果之各点作为要素之上述阴刻资料的外形逻辑积资料制作手段。11.如申请专利范围第8项或第9项所述之印章画像制作装置,其中,上述阴刻制作手段,系具有反转上述阳刻资料之各点的阳点与阴点之关系,并制作反转逻辑资料的反转逻辑资料制作手段,及以阳点表现阴刻外框与其内侧,并记忆以阴点表现上述阴刻外框外侧之阴刻外框外形资料的阴刻外框外形资料记忆手段,及读取上述阴刻外框外形资料之同时,演算上述反转逻辑资料与上述阴刻外框外形资料之互相地对应的点彼此间的逻辑积,并制作以该演算结果之各点作为要素之上述阴刻资料的外框逻辑积资料制作手段。12.如申请专利范围第8项或第9项所述之印章画像制作装置,其中,上述阴刻制作手段,系具有以阳点表现具有所定宽度之阴刻外框的资讯,并记忆以阴点表现上述阴刻外框之内侧之阴刻外框资料的阴刻外框资料记忆手段,及读出上述阴刻外框资料之同时,演算上述阳刻资料与上述阴刻外框资料之互相地对应的点彼此间的排斥性逻辑和,并制作以该演算结果之各点作为要素之排斥逻辑资料的排斥逻辑资料制作手段,及反转对应于上述排斥逻辑资料之上述阴刻外框内侧的各点之阳点与阴点之关系,制作上述阴刻资料的内侧资料反转手段。13.如申请专利范围第8项或第9项所述之印章画像制作装置,其中,上述阴刻制作手段,系具有反转上述阳刻资料之各点的阳点与阴点之关系,并制作反转逻辑资料的反转逻辑资料制作手段,及以阳点表现阴刻外框与其内侧,并记忆以阴点表现上述阴刻外框外侧之阴刻外框外形资料的阴刻外框外形资料记亿手段,及读取上述阴刻外框外形资料之同时,演算上述反转逻辑资料与上述阴刻外框外形资料之互相地对应的点彼此间的逻辑积,并制作以该演算结果之各点作为要素之上述阴刻资料的外框逻辑积资料制作手段,及以阳点表现用印章本体之印章部外形所围绕的内侧部分,并记忆以阴点表现外侧部分之印章外形资料的印章外形资料记忆手段,及读出上述印章外形资料之同时,演算上述阴刻基础资料与上述印章外形资料之互相地对应的点彼此间的逻辑积,并制作以该演算结果之各点作为要素之上述阴刻资料的外形逻辑积资料制作手段。14.如申请专利范围第8项或第9项所述之印章画像制作装置,其中,上述阴刻制作手段,系具有以阳点表现具有所定宽度之阴刻外框的资讯,并记忆以阴点表现上述阴刻外框之内侧之阴刻外框资料的阴刻外框资料记忆手段,及读出上述阴刻外框资料之同时,演算上述阳刻资料与上述阴刻外框资料之互相地对应的点彼此间的排斥性逻辑和,并制作以该演算结果之各点作为要素之排斥逻辑资料的排斥逻辑资料制作手段,及反转对应于上述排斥逻辑资料之上述阴刻外框内侧的各点之阳点与阴点之关系,制作上述阴刻资料的内侧资料反转手段,以阳点表现用印章本体之印章部外形所围绕的内侧部分,并记忆以阴点表现外侧部分之印章外形资料的印章外形资料记忆手段,及读出上述印章外形资料之同时,演算上述阴刻基础资料与上述印章外形资料之互相地对应的点彼此间的逻辑积,并制作以该演算结果之各点作为要素之上述阴刻资料的外形逻辑积资料制作手段。15.一种印章制作装置,系属于制作印章之印章制作装置,具有装卸自如地装设具有制作刻印的印章部之印章本体之机器本体的印章制作装置,其特征为:制作用以制作上述刻印所用之印章画像的印章画像制作装置,具备以对应于凸部之阳点表现成为该对象之印章的画像,并记忆以对应于凹部之阴点表现上述画像之空白部分之阳刻资料的阳刻资料记忆手段,及读出上述阳刻资料之同时,依照该阳刻资料及规定阴刻之外框的资料,制作以阴点表现上述画像,并以阳点表现上述空白部分之阴刻资料的阴刻资料制作手段,所成的印章画像制作装置,以及依照藉由上述印章画像制作装置所制作之上述阴刻资料,在装卸自如地装设于机器本体的印章本体之印章部制作阴刻的印章制作手段。16.一种印章制作装置,系属于制作印章之印章制作装置,具有装卸自如地装设具有制作刻印的印章部之印章本体之机器本体的印章制作装置;其特征为:制作用以制作上述刻印所用之印章画像的印章画像制作装置,具备上述印章画像制作装置,系以对应于凸部之阳点表现成为对象之印章的画像,并记忆以对应于凹部之阴点表现上述画像之空白部分之阳刻基础资料的阳刻基础资料记忆手段,及读出上述阳刻基础资料之同时,藉扩幅上述阳刻基础资料之上述阳点所成的阳点群,制作以阳点表现经扩幅上述画像之强调画像,并以阴点表现留下之空白部分之阳刻资料的阳刻资料强调手段,及依照上述阳刻资料,制作以阴点表现上述强调画像,并以阳点表现上述留下之空白部分之阴刻资料的阴刻资料制作手段,所成的印章画像制作装置,以及依照藉由上述印章画像制作装置所制作之上述阴刻资料,在装卸自如地制设于机器本体的印章本体之印章部制作阴刻的印章制作手段。17.如申请专利范围第15项或第16项所述之印章制作装置,其中,上述印章本体之印章部系由感光性树脂所构成;上述印章制作手段系具有:记忆多数之曝光时间的曝光时记忆手段,及从上述曝光时间记忆手段的上述多数之曝光时间选择扩幅对应于上述阴刻资料之上述阴点所成的阴点群之凹部所用之扩幅曝光时间的曝光时间选择手段,及藉对应于上述扩幅曝光时间之曝光,在上述印章本体之印章部制作阴刻的曝光手段。图式简单说明:第一图A系表示本发明之一实施形态的印章制作装置之外观的平面图。第一图B系表示上述印章制作装置之外观的正面图。第二图系表示印章制作装置之机械装置之外观的正面图。第三图系表示印章本体的构造图。第四图系表示制版片之构造的图式。第五图系表示机械装置部之曝光装置周围的平面图。第六图系取下开关盖状态之袋部周围之平面图。第七图A及第七图B系表示方形印对印章本体之袋部之装设状态的构造说明图。第七图C及第七图D系表示业务印对印章本体之袋部之装设状态的构造说明图。第八图A系表示说明较小方形印本体之判别模型的说明图。第八图B系表示说明较大方型印本体之判别模型的说明图。第八图C系表示说明姓名印本体之判别模型的说明图。第八图D系表示说明较小业务印本体之判别模型的说明图。第八图E系表示说明较大业务印本体之判别模型的说明图。第八图F系表示说明住址印本体之判别模型的说明图。第八图G系表示说明更大印章本体之判别模型的说明图。第九图系表示印章检测部之检测动作的剖面图。第十图系表示袋部及印章检测部周围的一部分平面图。第十一图系表示印章制作装置的控制方块图。第十二图系表示印章制作装置之多任务处理的概念图。第十三图系表示印章制作装置之处理顺序之概略的流程图。第十四图系表示印章制作装置之主要处理的阶组处理图表。第十五图系表示印章制作装置之任务监视,切换处理的阶组处理图表。第十六图系表示印章制作装置之现任务实行处理的阶组处理图表。第十七图系表示印章制作装置之主要任务起动处理之一例的流程图。第十八图系表示本发明之一实施形态之印章画像制作处理的流程图。第十九图A系表示第十八图之印章画像制作处理之阴刻资料制作处理之第1例的流程图。第十九图B系表示对应于第十九图A之流程图之画像资料之推移的图式。第二十图A及第二十图B系分别表示阴刻资料制作处理之第2例的与第十九图A及第十九图B同样的图式。第二十一图A及第二十一图B系分别表示阴刻资料制作处理之第3例的与第十九图A及第十九图B同样的图式。第二十二图A及第二十二图B系分别表示阴刻资料制作处理之第4例的与第十九图A及第十九图B同样的图式。第二十三图A及第二十三图B系分别表示阴刻资料制作处理之第5例的与第十九图A及第十九图B同样的图式。第二十四图A系表示说明阳刻时之曝光处理及曝光时间与印面之关系的模式图。第二十四图B系表示说明阴刻时之曝光处理及曝光时间与印面之关系的模式图。第二十五图系表示本发明之其他之一实施形态之与第十八图同样之印章画像制作处理的流程图。第二十六图A系表示依照细线之印章画像而制作之阴刻的被压印之画像之一例的图式。第二十六图B系表示依照依第二十五图之印章画像制作处理的印章画像所制作之印刻的被压印之画像之一例的图式。第二十七图系表示本发明之一实施形态之印章制作装置之曝光处理的流程图。第二十八图A系表示依通常之曝光时间的曝光处理所制作之阴刻的被压印的画像之一例的图式。第二十八图B系表示藉由第二十七图之曝光处理所制作之阴刻的被压印的画像之一例的图式。 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